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  • TruPlasma Match1000Huttinger 等離子射頻電源
    TruPlasma Match1000Huttinger 等離子射頻電源

    Huttinger 等離子體射頻電源TruPlasma Match1000此類高頻電源防患于未然:TruPlasma RF 3000 系列因堅固結構與效率而出眾。因此,其最佳適用于穩定且可再現的等離子體工藝,例如應用于純平顯示屏、太陽能電池或半導體制造。這些電源安裝在全球數以千計的應用中,以確保生產效率工藝結果。

    更新日期:2024-01-28型號:TruPlasma Match1000訪問量:3007
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  • TruPlasmaDC4010 (G2)脈沖等離子體電源
    TruPlasmaDC4010 (G2)脈沖等離子體電源

    TruPlasmaDC4010 (G2)脈沖等離子體電源TruPlasma DC 4000 (G2) 系列專為困難材料的直流反應濺射而開發。以脈沖式直流電工作的該款發生器經受住尤為嚴苛的 PVD (物理氣相沉積)和 PECVD (等離子體增強化學氣相沉積)工藝的考驗,這些工藝對涂層質量與生產效率均有*要求。緊湊型直流電源可在脈沖與偏壓模式下使用——亦即兩種設備集于同一外殼!

    更新日期:2024-01-28型號:訪問量:3914
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  • TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源
    TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源

    TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器可作為直流濺射電源的替代方案,無需改動即可用于現有磁控系統。其提供尤為抗腐蝕且耐磨損的硬質鍍膜,因此是高功率脈沖磁控濺射應用的首要之選。

    更新日期:2024-01-28型號:訪問量:4158
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  • TruPlasma MF Serie7000中頻等離子體電源
    TruPlasma MF Serie7000中頻等離子體電源

    TruPlasma MF Serie7000中頻等離子體電源通過 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列可以隨時掌控工藝流程:此款電源的電弧管理和點火特性具優勢,是用于大面積鍍膜(Large Area Coating)以及雙磁控濺射中高要求反應工藝流程的理想供電系統。與此同時,超過 90 % 的頂尖能量轉化率和極為高效的冷卻水管理系統確保*的運行經濟性。

    更新日期:2024-01-28型號:訪問量:2724
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  • TruPlasma Bipolar 4010等離子電源
    TruPlasma Bipolar 4010等離子電源

    TruPlasma Bipolar 4010等離子電源新一代雙極性脈沖發生器 TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 系列工藝電源專為借助 PVD、PECVD 和反應濺射工藝的等離子體輔助鍍膜技術而開發;在太陽能電池與半導體制造、耐磨裝飾涂層涂覆以及建筑玻璃鍍膜中,其憑借靈活可塑的輸出信號的電弧管理提供出色結果。

    更新日期:2024-01-28型號:訪問量:4617
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